工業(yè)超純水設備是專用于生產(chǎn)超純水的技術產(chǎn)品，它主要采用了雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝，出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)。反滲透系統(tǒng)中應用了熱門的反滲透膜水處理技術，可以實現(xiàn)對納米級物質的有效分離，能充分截留超純水中需要被去除的有機物、細菌、金屬離子、懸浮物等物質。這個處理過程無須化學反應助劑，可以在物理條件下穩(wěn)定進行，具有分離效果好、無污染、無相變的技術優(yōu)勢。

EDI模塊可以實現(xiàn)超純水深度脫鹽，能使系統(tǒng)實現(xiàn)帶電荷運行，促使離子遷移速度加快，脫鹽效果更加突出。該模塊處理無污染物質產(chǎn)生，更不會產(chǎn)生酸堿廢液，因此后續(xù)工藝中不需要再進行酸堿中和處理，有效減少了環(huán)境污染，同時提高了產(chǎn)水效率。EDI進水為二級反滲透產(chǎn)水，水質較好，脫鹽后濃水水質仍舊能夠優(yōu)于一級反滲透產(chǎn)水，可回流至一級反滲透產(chǎn)水箱。

工業(yè)超純水設備可以做到出水水質穩(wěn)定、生產(chǎn)無污染、能耗低、運行連續(xù)穩(wěn)定、自動化運行能力強，它采用了PLC智能化程序，能靈活進行操作，為超純水需求企業(yè)提供了可靠的技術支持。

工業(yè)超純水設備生產(chǎn)出的超純水中基本只會含有氫原子和氧原子兩種成分，是高純度的非飲用水，可以廣泛用于以下工業(yè)領域：

1. 硅晶圓清洗：硅晶圓是半導體生產(chǎn)的重要材料，其清潔程度對產(chǎn)品質量的影響巨大，應用超純水清洗硅晶圓能提高清潔度，保障產(chǎn)品質量、降低報廢率；

2. 細菌營養(yǎng)液配置：在生物實驗中，細菌培養(yǎng)是一項常見的實驗，采用超純水配置細菌培養(yǎng)的營養(yǎng)液不會干擾細菌的繁殖，基本對實驗結果無任何影響。

    除了以上兩大領域外，超純水還有其他廣泛的用途。因而，工業(yè)超純水設備還有巨大的投資價值有待開發(fā)。