CMD2000/4中試型研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到Z低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

中試型研磨分散機，實驗室中試研磨分散機，中試型分散機，中試型研磨機，專為實驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。

中試型研磨分散機是在中試型膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，剪切細化能力要強于高剪切膠體磨。
      
CMD2000/4中試型研磨分散設備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

        
CMD2000/4中試型研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

   
 IKN中試型研磨分散設備的膠體磨頭有很高的線速度，以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀，可以把相對大塊的物料進行初步粉碎，以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。     磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒，但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

     
CMD2000/4中試型研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到zui低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。更多信息請段明明。

CMD2000/4中試型研磨分散設備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送。
           
CMD2000膠體磨標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼。 特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。    
CMD2000膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。CM2000設計耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有： -動密封動靜環(huán)材質(zhì)搭配（碳化硅，合金等） -靜態(tài)密封圈材質(zhì)選型（是否有腐蝕性物料，酸堿度等） -磨頭定轉(zhuǎn)子材質(zhì)（不銹鋼，碳化鎢鈷，三氧化二鋁等） -是否需要我司配置電控柜。

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