美國(guó)麥奇克Microtrac激光粒度分析儀
美國(guó)麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）是世界上zui*的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商，其*的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥，磨料，冶金，制藥，石油，石化，陶瓷，等領(lǐng)域，并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測(cè)和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新，近半個(gè)世紀(jì)以來(lái)，一直著激光粒度分析的前沿技術(shù)，可靠的產(chǎn)品和強(qiáng)大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù)，使得其不斷超越自我，推陳出新，風(fēng)。麥奇克Microtrac以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨(dú)到見(jiàn)解，經(jīng)過(guò)多年的市場(chǎng)調(diào)研和潛心研究，開(kāi)發(fā)出一代Zetatrac微電場(chǎng)分析技術(shù)，融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測(cè)量于一體，無(wú)需傳統(tǒng)的比色皿，一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比，Zetatrac采用*的“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì)，配置膜電極產(chǎn)生微電場(chǎng)，操作簡(jiǎn)單，測(cè)量迅速，無(wú)需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層，無(wú)需外加大功率電場(chǎng)，無(wú)需更換分別用于測(cè)量粒度和Zeta電位的樣品池，*消除由于空間位阻（不同光學(xué)元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差異，分散介質(zhì)的影響，顆粒間多重散射等）帶來(lái)的光學(xué)信號(hào)的損失，結(jié)果準(zhǔn)確可靠，重現(xiàn)性好。
產(chǎn)品范圍：
美國(guó)麥奇克Microtrac激光粒度分析儀、麥奇克Microtrac電位分析儀、麥奇克Microtrac、麥奇克Microtrac噴霧粒度分析儀、麥奇克Microtrac動(dòng)態(tài)顆粒圖像分析儀
技術(shù)數(shù)據(jù)：
Microtrac S3500激光粒度分析儀系列產(chǎn)品：
藍(lán)波2型(BWDL)):濕法測(cè)量范圍：0.01-2,800μm；干法測(cè)量范圍：0.25-2,800μm藍(lán)波1型(BWSL)):濕法測(cè)量范圍：0.01-2,000μm；干法測(cè)量范圍：0.25-2,000μm
增強(qiáng)型(Enhanced):濕法測(cè)量范圍：0.02-2,800μm；干法測(cè)量范圍：0.25-2,800μm
擴(kuò)展型(eXtended):濕法測(cè)量范圍：0.02-2,000μm；干法測(cè)量范圍：0.25-2,000μm
特殊型(speciaL) : 濕法測(cè)量范圍：0.09-1,500μm；干法測(cè)量范圍：0.25-1,500μm
標(biāo)準(zhǔn)型(Standard):濕法測(cè)量范圍：0.25-1,500μm；干法測(cè)量范圍：0.25-1,500μm
型(High): 濕法測(cè)量范圍：2.75-2,800μm；干法測(cè)量范圍：2.75-2,800μm
基本型(Basic) : 濕法測(cè)量范圍：0.70-1,000μm；干法測(cè)量范圍：0.70-1,000μm
Microtrac噴霧粒度分析儀技術(shù)參數(shù)：
測(cè)量范圍：0.5um一2,000um
測(cè)量方法：靜態(tài)激光衍射分析技術(shù)，全量程米氏理論處理
系統(tǒng)自動(dòng)對(duì)焦，實(shí)時(shí)檢測(cè)，分析時(shí)間短
自動(dòng)觸發(fā)，可實(shí)現(xiàn)脈沖噴霧測(cè)量
數(shù)據(jù)處理靈活方便，兼容Windows系列版本
可選型號(hào)：SPR3500A（標(biāo)準(zhǔn)型）,SPR1500A（大角度）
可選附件干法噴霧器（PD--10S)，濕法分散器（SC一13),運(yùn)動(dòng)底座(MB-600）
Microtrac動(dòng)態(tài)顆粒圖像分析儀技術(shù)參數(shù)：
多于30種的形態(tài)參數(shù)
干法的測(cè)量范圍：4μm --4,500μm
采用壓縮空氣分散精細(xì)粉末
相機(jī)速度：至少100幅/秒，高分辨率相機(jī)
堅(jiān)固而緊湊的外觀設(shè)計(jì)
封閉式的光學(xué)系統(tǒng)，減少停機(jī)維護(hù)
測(cè)試方法：動(dòng)態(tài)顆粒圖像實(shí)時(shí)分析
樣品用量：0.5-50g
測(cè)量時(shí)間：1-5分鐘的雙光路一體化設(shè)計(jì)
用戶可自行定義被測(cè)樣品的上下限粒度閾值，進(jìn)行趨勢(shì)分析，統(tǒng)計(jì)被測(cè)顆粒的數(shù)量，及時(shí)反饋調(diào)準(zhǔn)
會(huì)員1.png)
