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太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司
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太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)XMD
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
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更新時(shí)間：2019-06-18 10:56:33瀏覽次數(shù)：493次
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*納米研磨均質(zhì)機(jī)對(duì)流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過(guò)加工后，粒度達(dá)2～50微米，均勻度達(dá)90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。
*納米研磨均質(zhì)機(jī),*高剪切均質(zhì)機(jī),*實(shí)驗(yàn)室四級(jí)均質(zhì)機(jī),科研*藥劑均質(zhì)機(jī)
一、*的簡(jiǎn)介
*，白色固體或粉末狀的兩性氧化物，分子量：79.9，是一種白色無(wú)機(jī)顏料，具有無(wú)毒、較佳的不透明性、較佳白度和光亮度，被認(rèn)為是性能較好的一種白色顏料。鈦白的粘附力強(qiáng)，不易起化學(xué)變化。廣泛應(yīng)用于涂料、塑料、造紙、印刷油墨、化纖、橡膠、化妝品等工業(yè)。它的熔點(diǎn)很高，也被用來(lái)制造耐火玻璃，釉料，琺瑯、陶土、耐高溫的實(shí)驗(yàn)器皿等。
同時(shí)，*有較好的紫外線掩蔽作用，常作為防曬劑摻入紡織纖維中，超細(xì)的*粉末也被加入進(jìn)防曬霜膏中制成防曬化妝品。
*可由金紅石用酸分解提取，或由四氯化鈦分解得到。*性質(zhì)穩(wěn)定，大量用作油漆中的白色顏料，它具有良好的遮蓋能力，和鉛白相似，但不像鉛白會(huì)變黑；它又具有鋅白一樣的持久性。
二、*的研磨
生產(chǎn)出來(lái)的*有時(shí)品質(zhì)不高，粒徑為微米級(jí)，在后期應(yīng)用過(guò)程中需要進(jìn)一步的研磨細(xì)化粒徑，結(jié)合多家客戶案例，*XMD2000系列高剪切膠體磨進(jìn)行研磨細(xì)化處理，一般循環(huán)處理，粒徑可至納米級(jí)。XMD2000系列高剪切膠體磨，有著18000rpm的轉(zhuǎn)速，三層錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的高精密磨頭，研磨細(xì)化效率高。
三、*膠體磨介紹：
1、SID膠體磨具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用方便，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡(jiǎn)單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料理想的加工設(shè)備。
2、SID高剪切膠體磨是對(duì)流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過(guò)加工后，粒度達(dá)2～50微米，均勻度達(dá)90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。
3、該機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國(guó)外同類產(chǎn)品的*水平。
四、影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1、膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
2、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
3、物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
4、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
六、超高速膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較：
1、轉(zhuǎn)速和剪切速率：納米膠體磨，可選擇德國(guó)機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國(guó)內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1通過(guò)轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍
2、膠體磨頭和間距：納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，XM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國(guó)內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差
3、機(jī)械密封：納米膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國(guó)內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
七、XMDS2000系列*納米研磨均質(zhì)機(jī)型號(hào)表
以下為型號(hào)表供參考：
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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